Компания Applied Materials объявила о выпуске Applied E3 – решения контроля оборудования и производственных процессов. Данное ПО призвано повысить продуктивность и снизить затраты на выпуск полупроводников, плоскопанельных дисплеев и фотогальванических солнечных батарей.

Используя уникальные алгоритмы, Applied E3 повышает эффективность производственных процессов более чем на 30%, способствуя росту кпд использования оборудования на 20%.

Программный пакет имеет модульную архитектуру, что обеспечивает высокий уровень надежности и масштабируемости программы. Так, модуль АРС (Automated Process Control) отвечает за контроль над процессами, сбор данных и автоматизацию оборудования, FDC (Fault Detection and Classification) осуществляет оборудованием путем сбора его параметров и предотвращение сбоев, модуль R2R (Run-to-Run control) подстраивает характеристики процессов в реальном времени, таким образом повышая их продуктивность, EPT (Equipment Performance Tracking) обеспечивает слежение за каждым компонентом на производстве и сигнализирует об инцидентах, таких как возникновение заторов на отдельных участках.